，據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，江蘇微導(dǎo)納米科技股份有限公司申請一項(xiàng)名為“鍍膜腔室以及鍍膜設(shè)備“，公開號(hào)CN117248193A，申請日期為2023年11月。

專利摘要顯示，本申請涉及一種鍍膜腔室以及鍍膜設(shè)備，包括:腔體，腔體包括相對(duì)設(shè)置的蓋板和底板、以及位于蓋板和底板之間的側(cè)壁，蓋板、底板和側(cè)壁圍成反應(yīng)腔，腔體設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口；載板，設(shè)于反應(yīng)腔內(nèi)且具有用于盛放待處理物的承載面；以及勻流裝置，設(shè)置于反應(yīng)腔內(nèi)且間隔設(shè)置于進(jìn)氣口和出氣口中的至少一者與載板之間；勻流裝置包括勻流板和勻流件，勻流板上貫穿形成有多個(gè)勻氣孔，勻流件設(shè)置在勻流板面向載板的一面；勻流件至少覆蓋一個(gè)勻氣孔且與勻氣孔連通，勻流件的側(cè)面設(shè)置氣道口，氣道口的氣流方向與勻流板主平面之間的夾角A滿足:0度≤A＜90度。本申請實(shí)施例的一種鍍膜腔室以及鍍膜，具有待處理物不易損壞的優(yōu)點(diǎn)。

本文源自:金融界

作者:情報(bào)員